為確保我國半導體產業在全球的領先地位，行政院院會17日排定討論被形容為「台版晶片法案」的《產業創新條例》修正草案，給予符合一定條件的業者研發費用和設備支出抵減營利事業所得稅，院會通過後將送立法院審議，修法後台積電、聯發科等半導體大廠都有機會適用，減稅優惠預定明年上路。
艾司摩爾 加碼投資新北
此外，全球第三大DRAM廠美商美光16日宣布推出旗下最先進的1β（1-beta）製程DRAM晶片，並預告明（2023）年會將該製程導入台灣廠區生產，是全台最強的DRAM製造技術。而全球最大晶片微影設備製造商艾司摩爾（ASML）也決定加碼投資，規畫在新北市林口工一產業園區內新建廠區，副閣揆沈榮津透露，投資案將於明年7月動工，將是艾司摩爾在台最大投資金額。艾司摩爾則表示投資案將在新北市，但不透露細節。
新冠疫情引發斷鏈危機、美中科技戰升溫等因素，美國、歐盟、日本、南韓等國近來先後祭出政府補貼，推動半導體生產在地化。經濟部官員表示，各國都在補助半導體產業，台灣也要提出作法，但考量我國已是領先者，政策上更應鼓勵先進研發，持續尋求先進製程突破，「把雞養大」。
增訂條例 首重前瞻創新
經濟部增訂《產業創新條例》第十條之二，明訂在國內進行前瞻技術創新、且居國際供應鏈關鍵地位的公司，符合「適用資格條件者」，投資在前瞻創新研究發展的支出，享有25%的研發投資抵減，購置先進設備當年度抵減率5%，且無投資抵減支出金額上限。不過，單項投資抵減總額不得超過當年度應納營所稅額30%，2項同時申請則以營所稅額50%為限。
官員表示，修法3大適用要件為「研發費用達一定規模」、「研發密度達一定規模」、「有效稅率達一定比率」。針對研發費用標準門檻原訂100億元，討論後降為50億元，細節仍待兩部協調後，另以子法訂定。
有效稅率 12%為基礎
有效稅率方面，財經官員說，財經兩部已有共識，將規範有效稅率至少12%為基礎，後續在2024年跟進OECD國家施行最低稅負15%，屆時若歐洲國家實施時間有變，保留政院核可延後1年的彈性空間，換言之，最晚2025年有效稅率會訂在15%。至於施行期間預計自明年起到2029年底，細節仍待行政院會核定。
據了解，包括台積電、聯發科、日月光、鴻海、瑞昱等公司的研發支出都超過百億元。台積電昨回應，公司持續投資台灣，樂觀其成。
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責任編輯：倪旻勤
